Droger voor wafer in het nabije infrarode gebied (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Op de 300mm-lijn is het drogen van de fotoresist geen gewone thermische stap. Het gaat om een cruciale factor voor de nauwkeurigheid van de productie. Als de temperatuur tijdens het zachte of harde drogen zelfs maar iets afwijkt van ±0,1°C, wordt de controle over de essentiële dimensies verstoord. Conventionele warmtebronnen veroorzaken problemen met de consistentie van de temperatuur aan de randen van de wafer, terwijl convectiestoven schadelijke deeltjes in het proces kunnen brengen. In een cleanroom van klasse 1–100 betekenen het ontstaan van deeltjes en onverwachte stilstand geen paar minuten verlies – het betekent dat hele ladingen producten niet meer bruikbaar zijn.

DNS (Scherm) wafer droger lamp

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Op de lithografievloer is een afwijking van 1°C in de soft bake of hard bake geen “kleine fout.” Het is een impact op de opbrengst, simpelweg. U ziet wafers de track verlaten met randbeading, variatie in lijnbreedte of oplosmiddel dat nooit volledig is verwijderd—residu dat later als een defect verschijnt. Wat u nodig heeft, is een warmtebron die de hele wafer behandelt als één thermisch lichaam, niet als een patchwork van warme en koude plekken.

Infrarode Precisie: Sub-millimeter uniformiteit, herhaalbaar

De DNS scherm wafer drogerlamp is gebouwd rondom gecontroleerde nabij-infrarode (NIR) verwarming, afgestemd om een sub-millimeter uniforme thermische veld over het wafervlak te leveren. In de praktijk vertaalt dit zich naar een consistente fotoresist temperatuur van het midden naar de rand, zodat de soft bake oplosmiddelen gelijkmatig verwijdert en de hard bake het resistprofiel vergrendelt—zonder hervloeiing of aanslag.
Het systeem houdt herhaalbaarheid van lot tot lot en van shift tot shift, zodat uw kritische dimensie (CD) prestaties niet afwijken wanneer de omgevingsomstandigheden veranderen. De lampuitgang blijft stabiel over lange runs, en het ontwerp houdt de deeltjesgeneratie dichtbij nul—precies wat u nodig heeft wanneer u in Class 1–100 cleanrooms draait.

Droger on Focused IR Heating Beams

Droger voor wafer in het nabije infrarode gebied (NIR)

DNS (Scherm) wafer droger lamp

Infrarode Precisie: Sub-millimeter uniformiteit, herhaalbaar