<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/nl/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/nl/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Droger voor wafer in het nabije infrarode gebied (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/nl/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/nl/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Droger voor wafer in het nabije infrarode gebied (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de 300mm-lijn is het drogen van de fotoresist geen gewone thermische stap. Het gaat om een cruciale factor voor de nauwkeurigheid van de productie. Als de temperatuur tijdens het zachte of harde drogen zelfs maar iets afwijkt van ±0,1°C, wordt de controle over de essentiële dimensies verstoord. Conventionele warmtebronnen veroorzaken problemen met de consistentie van de temperatuur aan de randen van de wafer, terwijl convectiestoven schadelijke &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;deeltjes&lt;/a&gt; in het proces kunnen brengen. In een cleanroom van klasse 1–100 betekenen het ontstaan van deeltjes en onverwachte stilstand geen paar minuten verlies – het betekent dat hele ladingen producten niet meer bruikbaar zijn.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
