Diepe UV (DUV) resistentverhittingslamp

Fri, 26 Jun 2026 05:13:35 +0800

Op de afdeling voor lithografie leer je snel dat zelfs een klein verschil in de temperatuur van het proces ertoe kan leiden dat er problemen ontstaan. Een verschil van half graden kan al ertoe zorgen dat de kenmerken van de chip niet meer voldoen aan de vereisten. Bovendien kan het voorkomen dat een kleine hoeveelheid vuil ertoe leidt dat een goede chip wordt beschadigd. De DUV-resistverhittingslamp zorgt ervoor dat dit soort problemen worden voorkomen.

Wat belangrijk is onder de motorkap Het gaat om een evenwichtige temperatuur over het hele oppervlak van de chip, binnen een marge van ±0,1°C. Op deze manier droogt het fotoresistent gelijkmatig op, batch na batch. Dankzij de korte golflengte en het kwartsgeoptimaliseerde ontwerp wordt de chip snel en gericht verhit, zonder dat er hotspots ontstaan. Bovendien zorgt de systeemarchitectuur voor een schone omgeving – er komt geen vuil vrij, zodat je geen last hebt van problemen met de zuiverheid van de ruimte.

Verhittingsapparaat voor het lamineren van droge filmresisten

Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800

Op de lithografieafdeling zorgt de verwarmingsunit niet alleen voor warmte, maar bepaalt ook het thermische regime voor het hele fotorezystsysteem. Een afwijking van 0,5°C tijdens het verhitten van het materiaal heeft invloed op de viscositeit, de kwaliteit van de randen en de controle over de cruciale dimensies. Als er een vereiste is van een gelijkmatigheid van ≤±0,1°C over het hele oppervlak van het substraat, dan is deze verwarmingsunit geen accessoire meer – het is juist het belangrijkste element in het proces.

Weigeren on Focused IR Heating Beams

Diepe UV (DUV) resistentverhittingslamp

Verhittingsapparaat voor het lamineren van droge filmresisten