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		<title>Assar on Focused IR Heating Beams</title>
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		<description>Recent content in Assar on Focused IR Heating Beams</description>
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				<title>Lâmpada de secagem para resina resistente a UV profundo (DUV)</title>
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				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:32 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lâmpada de secagem para resina resistente a UV profundo (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na área de litografia, é possível aprender rapidamente: um perfil de secagem inadequado, mesmo que seja pequeno, pode causar problemas que não são imediatamente percebidos. Uma variação de meio grau já pode fazer com que as dimensões críticas fiquem fora dos parâmetros desejados. Além disso, a presença de partículas pode transformar uma wafer boa em material inutilizável, sem que se perceba. A lâmpada de secagem para fotoresistente DUV existe justamente para eliminar essa incerteza durante o processo térmico.&lt;/p&gt;</description>
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