Resistir on Focused IR Heating Beams

Lâmpada de secagem para resina resistente a UV profundo (DUV)

Fri, 26 Jun 2026 05:13:32 +0800

Na área de litografia, é possível aprender rapidamente: um perfil de secagem inadequado, mesmo que seja pequeno, pode causar problemas que não são imediatamente percebidos. Uma variação de meio grau já pode fazer com que as dimensões críticas fiquem fora dos parâmetros desejados. Além disso, a presença de partículas pode transformar uma wafer boa em material inutilizável, sem que se perceba. A lâmpada de secagem para fotoresistente DUV existe justamente para eliminar essa incerteza durante o processo térmico.

Aquecedor para laminação de resistência de filme seco

Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800

Na área de litografia, o aquecedor utilizado para a laminação não se limita a fornecer calor. Na verdade, ele determina o balanço térmico necessário para todo o perfil do fotoreestivo. Qualquer desvio de 0,5°C durante o processo de cozimento suave pode afetar a viscosidade do material, bem como o controle das dimensões críticas do produto final. Quando é exigida uma uniformidade de temperatura de ≤±0,1°C em toda a superfície do substrato, esse aquecedor deixa de ser um simples acessório e passa a ser um elemento essencial no processo.