Secador de wafers em infravermelho próximo (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Na linha de 300 mm, o processo de secagem do fotorevestimento não é apenas mais um passo térmico. Trata-se de um fator crucial para garantir a precisão dimensional dos componentes produzidos. Se houver qualquer desvio de ±0,1°C durante os processos de secagem, todo o controle dimensional fica comprometido. As placas de aquecimento convencionais dificultam a repetibilidade nas bordas do wafer, enquanto os fornos convectivos introduzem contaminação no ambiente de trabalho. Em uma sala limpa de classe 1–100, a geração de partículas e as paradas não planejadas não causam apenas perda de minutos de trabalho, mas sim prejuízos significativos para toda a produção.

Wafers on Focused IR Heating Beams

Secador de wafers em infravermelho próximo (NIR)