Вафля on Focused IR Heating Beams

Расстояние безопасности при нагревании пластины

Sat, 20 Jun 2026 06:00:49 +0800

На участке литографии безопасное расстояние вокруг поверхности пластины при нагревании не является зоной комфорта – это граница, которую необходимо соблюдать. Если подойти слишком близко, возникают проблемы: тепловое взаимодействие, искажение структуры фоторезиста, а также перемещение частиц. Если же отойти слишком далеко, процесс нагрева будет неэффективным, что приведет к отклонениям в однородности параметров пластины. Мы спроектировали платформу для нагрева таким образом, чтобы это расстояние всегда соблюдалось, тем самым сохраняя параметры фоторезиста в пределах допустимых значений.

Что имеет значение с технической точки зрения
Мы поддерживаем однородность температуры на всей поверхности пластины в пределах ±0,1°C в течение всего цикла нагрева. Температура нагрева напрямую влияет на ширину линий и угол их наклона; поэтому соблюдение этих параметров крайне важно.

Нагреватель для сушки пластин МЭМС

Sun, 07 Jun 2026 03:57:07 +0800

Вернувшись к линии

Сырой MEMS-вафель выходит из процесса очистки и ожидает. Следующая остановка — нанесение фоточувствительного покрытия, мягкая сушка и чистая сушка — не допускает тепловых колебаний. Если на поверхность попадает горячая точка в 1°C, контроль ширины линии превращается в лотерею. Мы разработали этот обогреватель для сушки MEMS-вафель, чтобы устранить эту неопределенность до того, как она попадет в литографический процесс.

Что важно под капотом Мы определили проектирование на уровне ±0.1°C однородности в установившемся состоянии по всей поверхности вафли. Фоточувствительный материал достаточно чувствителен, чтобы любое температурное градиент было прямым риском для выхода. Нагревательный элемент использует коротковолновое инфракрасное излучение для быстрого, бесконтактного внесения энергии, что позволяет снизить тепловую инерцию и колебания при холодном старте. Кварц и совместимые с чистыми помещениями материалы обеспечивают минимальное образование частиц, что соответствует требованиям классов 1–100. Повторяемость процесса точно настроена, так что один и тот же тепловой бюджет сохраняется из цикла в цикл — без отклонений в профилях сушки между партиями.

Светильник для сушки ваферов DNS (экран)

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

На литографическом этаже отклонение температуры на 1°C во время мягкой или жесткой сушки не является «небольшой ошибкой». Это приводит к снижению выхода, просто и ясно. Вы наблюдаете, как вафли покидают линию с краевыми полосами, разбросом ширины линий или растворителем, который никогда полностью не испарился — остатки, которые позже проявляются как дефекты. Вам нужен источник тепла, который обрабатывает всю вафлю как одно термическое тело, а не как мозаику горячих и холодных участков.

Инфракрасная точность: Подмиллиметровая однородность, воспроизводимость

Лампа сушилки для экранных вафель DNS основана на контролируемом ближнем инфракрасном (NIR) отоплении, настроенном на создание подмиллиметрового однородного теплового поля по плоскости вафли. На практике это означает постоянную температуру фотополимера от центра до края, так что мягкая сушка равномерно удаляет растворители, а жесткая сушка фиксирует профиль резиста — без повторного плавления или образования налета. Система обеспечивает воспроизводимость от партии к партии и от смены к смене, поэтому производительность по критическим размерам (CD) не колеблется при изменении условий окружающей среды. Выход лампы остается стабильным при длительных запусках, а конструкция минимизирует образование частиц — именно то, что вам нужно при работе в чистых помещениях класса 1–100.