http://ir-heat-beam.com/ru/tags/%D1%81%D0%BE%D0%BF%D1%80%D0%BE%D1%82%D0%B8%D0%B2%D0%BB%D1%8F%D1%82%D1%8C%D1%81%D1%8F/ Recent content in Сопротивляться on Focused IR Heating Beams Hugo ru Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800 http://ir-heat-beam.com/ru/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800 http://ir-heat-beam.com/ru/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Лампа для высушивания резиста для глубокого УФ излучения (DUV)"></p> <p>На производстве по технологии литографии человек быстро учится: даже незначительное отклонение параметров процесса может привести к снижению качества готовых изделий. Небольшое отклонение в полградуса может нарушить точность размеров изделия, а наличие частиц может превратить хороший кристалл в бракованный ещё до того, как вы это поймете. Лампы для обработки фоторезиста в УФ-диапазоне помогают избежать таких проблем.</p> <p><strong>Что важно на самом деле</strong> Речь идет о тепловой однородности на уровне кристалла – не более ±0,1°C. Таким образом, вся поверхность фоторезиста сохнет одинаково, независимо от партии или смены. Коротковолновый свет и оптимизированная конструкция кварца обеспечивают быстрое и контролируемое нагревание без возникновения «горячих точек». Кроме того, система работает без каких-либо проблем – нет выброса частиц, что позволяет поддерживать стандарты чистоты 1–100 класса.</p> http://ir-heat-beam.com/ru/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800 http://ir-heat-beam.com/ru/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Нагреватель для нанесения пленки защиты"></p> <p>На этапе литографии нагревательный элемент не просто выделяет тепло – он также определяет температурный режим для всей поверхности фотополимера. Даже небольшое отклонение в 0,5°C во время процедуры нагрева может повлиять на свойства фотополимера, а также на точность формирования критических размеров деталей. Если требуется сохранять однородность температуры на уровне ≤±0,1°C по всей поверхности подложки, то нагревательный элемент становится ключевым элементом процесса.</p> <p>Мы используем систему нагрева с использованием кварцевых элементов, отличающуюся высокой скоростью реакции и отсутствием выброса частиц. Устройство контроля температуры обеспечивает стабильную температуру на уровне ±0,1°C по всей активной поверхности. Поверхности камеры из нержавеющей стали, а также система вентиляции с фильтрами HEPA помогают контролировать количество частиц в помещении класса 1–100. Повторяемость результатов обеспечивается за счет фиксированного температурного профиля, который можно сохранять и использовать при каждой партии продукции.</p>