การลดระยะเวลาในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ โดยใช้ระบบ IR ที่ไม่มีก๊าซโอโซน แทนการใช้ระบบการถ่ายเทอากาศด้วยแรงดัน

Wed, 09 Sep 2026 14:01:36 +0800

ทำไมต้องรอไปเรื่อยๆ ด้วยการใช้ลมร้อนล่ะ? การใช้แสงอินฟราเรดในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ หากคุณเคยทำงานในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์มาก่อน คุณคงรู้ดีว่าการใช้ลมร้อนนั้นเป็นเรื่องที่น่ารำคาญมาก คุณต้องเปิดเครื่อง แล้วก็รอไปเรื่อยๆ จริงๆ แล้วก็เหมือนกับการใช้พลังงานไปกับการทำให้อากาศร้อนขึ้น เพื่อให้ชิ้นงานมีอุณหภูมิที่เหมาะสม ซึ่งเป็นวิธีที่ช้ามาก และน่ารำคาญมากด้วย แต่การใช้หลอดแสงอินฟราเรดนั้นแตกต่างออกไป แทนที่จะทำให้อากาศร้อนขึ้น หลอดแสงอินฟราเรดจะส่งพลังงานไปยังชิ้นงานโดยตรง การรอคอยจบลงแล้ว ลองนึกถึงความช้าในการเพิ่มอุณหภูมิของระบบใช้ลมร้อนดูสิ ต้องใช้เวลานานมากกว่าอากาศจะหมุนเวียนและมีอุณหภูมิที่สม่ำเสมอ ในกระบวนการผลิตที่มีปริมาณมาก ช่วงเวลาเหล่านี้ไม่เพียงแต่น่ารำคาญเท่านั้น แต่ยังสร้างความเสียหายทางเศรษฐกิจอีกด้วย แต่เมื่อเราเปลี่ยนมาใช้แสงอินฟราเรด ระยะเวลาในการเพิ่มอุณหภูมิจะลดลงประมาณ 70% ถึง 90% นั่นหมายความว่าเราใช้เวลาเพียงไม่กี่วินาทีเท่านั้น ปริมาณการผลิตต่อชั่วโมงก็เพิ่มขึ้น และคุณก็ไม่ต้องมานั่งรออีกต่อไป แต่ก็มีข้อเสียอยู่บ้าง นั่นก็คือโอโซน หลอดแสงอินฟราเรดแบบมาตรฐานอาจมีคลื่นความยาวที่สูงเกินไป ซึ่งจะก่อให้เกิดโอโซนขึ้นมา ในห้องที่มีอากาศปลอดเชื้อ นั่นเป็นเรื่องที่น่ากังวลมาก เพราะโอโซนจะทำลายวัสดุอินทรีย์และสร้างความเสียหายให้กับวงจรอิเล็กทรอนิกส์ที่เราพยายามสร้างขึ้นมา เพื่อแก้ปัญหานี้ เราจึงใช้ภาชนะที่ทำจากควอตซ์และตัวกรองภายใน เพื่อป้องกันคลื่นความยาวที่เป็นอันตรายเหล่านั้น คุณยังคงได้รับพลังงานความร้อนสูงอยู่ แต่ไม่มีผลกระทบจากสารเคมีอีกต่อไป แน่นอนว่า แสงอินฟราเรดก็ไม่ใช่สิ่งมหัศจรรย์อะไร มันก็มีข้อจำกัดของมันเอง เนื่องจากแสงอินฟราเรดมีทิศทางการส่งพลังงานที่ชัดเจน ดังนั้นจึงจำเป็นต้องมีตำแหน่งการวางหลอดแสงที่เหมาะสม เพื่อให้ชิ้นงานได้รับความร้อนอย่างสม่ำเสมอ อีกอย่างหนึ่งคือ พลังงานความร้อนที่ได้นั้นสูงมาก หากคุณไม่มีอุปกรณ์ระบายความร้อนที่ดีพอ ตัวเครื่องของคุณก็จะได้รับความเสียหายได้ แม้ว่าจะต้องมีการวางแผนล่วงหน้ามากขึ้นอีกนิด แต่ความเร็วในการผลิตก็คุ้มค่ามาก

Free on เฉพาะจุด การทำความร้อน IR ลำแสง