DNS (Ekran) wafer kurutucu lamba

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Litografi zemininde, yumuşak pişirme veya sert pişirmedeki 1°C kayması “küçük bir hata” değildir. Bu, net bir verim kaybıdır. Kenar kenarına, çizgi genişliği yayılması veya asla tam olarak temizlenmeyen solvent ile birlikte olan wafer’ları izlersiniz - daha sonra bir defekt olarak ortaya çıkan kalıntılar. İhtiyacınız olan, tüm wafer’ı tek bir termal cisim olarak ele alan bir ısı kaynağıdır, sıcak ve soğuk noktaların yamalı bir görüntüsü değil.

Kızılötesi Hassasiyeti: Alt milimetre biriminde uniformite, tekrarlanabilir

DNS ekran wafer kurutucusu lambası, wafer düzlemi boyunca alt milimetre uniform termal alan sağlamak için ayarlanmış kontrollü yakın kızılötesi (NIR) ısıtma etrafında inşa edilmiştir. Pratikte, bu merkezden kenara tutarlı fotoğrafik sıcaklık anlamına gelir, böylece yumuşak pişirme solventleri eşit biçimde kurutur ve sert pişirme resist profilini kilitler - yeniden akma veya kabarma olmadan. Sistem, lot’tan lot’a ve vardiyadan vardiyaya tekrarlanabilirliği korur, bu nedenle kritik boyut (CD) performansınız, ortam koşulları değiştiğinde kaymaz. Lamba çıkışı uzun koşular boyunca stabil kalır ve tasarım, partikül üretimini sıfıra yakın tutar - Class 1–100 temiz odalarda çalıştığınızda tam olarak ihtiyacınız olan şey.

DNS on Focused IR Heating Beams

DNS (Ekran) wafer kurutucu lamba

Kızılötesi Hassasiyeti: Alt milimetre biriminde uniformite, tekrarlanabilir