<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Безпека on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/uk/tags/%D0%B1%D0%B5%D0%B7%D0%BF%D0%B5%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Безпека on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 06:00:50 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/uk/tags/%D0%B1%D0%B5%D0%B7%D0%BF%D0%B5%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Безпечна відстань для нагріву пластини</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:00:50 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Безпечна відстань для нагріву пластини&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні установки для літографії ця безпечна відстань навколо пластини під час її нагрівання не є зоною комфорту. Це жорсткі межі процесу. Якщо наблизитися занадто близько, виникають проблеми з тепловим впливом, деформацією профілю фотополімеру та відхиленнями частинок. Якщо ж віддалятися занадто далеко, процес нагрівання не буде ефективним – однорідність параметрів пластини вийде за межі допусків. Ми спроектували нашу платформу для нагрівання так, щоб ця відстань завжди дотримувалась, тож тепловий режим залишається в межах допусків для фотополімеру.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
