<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dryer on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/uk/tags/dryer/</link>
		<description>Recent content in Dryer on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/uk/tags/dryer/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Сушарка пластин у діапазоні близького інфрачервоного випромінювання (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Сушарка пластин у діапазоні близького інфрачервоного випромінювання (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лінії завдовжки 300 мм процедура висушування фотополімеру є не просто ще одним термічним кроком у процесі виробництва. Це ключовий елемент для забезпечення точності розмірів продукту. Навіть найменша похибка у температурі під час процедури висушування може призвести до значних проблем з контролем розмірів продукту. Традиційні нагрівальні платформи створюють проблеми з точністю обробки країв пластини, а конвективні печі сприяють потраплянню забруднень у процес виробництва. У чистих приміщеннях класу 1–100 утворення частинок та непланові зупинки процесу коштують не кількох хвилин – а цілих партій продукції.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Лампа сушарки пластин DNS (екран)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Лампа сушарки пластин DNS (екран)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На літографічному майданчику відхилення в 1°C у м&amp;rsquo;якому або твердому випічці не є &amp;ldquo;маленькою помилкою&amp;rdquo;. Це вплив на вихід, просто і зрозуміло. Ви спостерігаєте, як вафлі покидають трек з крайовими смугами, нерівностями ширини лінії або розчинником, який ніколи не повністю видалений — залишками, які пізніше проявляються як дефект. Вам потрібне джерело тепла, яке обробляє всю вафлю як одне термічне тіло, а не як мозаїку гарячих і холодних точок.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;інфрачервона-точність-субміліметрова-однорідність-повторюваність&#34;&gt;Інфрачервона точність: субміліметрова однорідність, повторюваність&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Лампа сушарки для вафлів DNS побудована на контролюваному нагріванні в ближньому інфрачервоному (NIR) діапазоні, налаштованому для забезпечення субміліметрового однорідного термічного поля по площі вафлі. На практиці це означає стабільну температуру фоторезисту від центру до краю, тому м&amp;rsquo;яка випічка рівномірно видаляє розчинники, а тверда випічка закріплює профіль резисту — без повторного плавлення чи забруднення.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
