<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Resist on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/uk/tags/resist/</link>
		<description>Recent content in Resist on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/uk/tags/resist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для висушування резисту глибокого УФ світла (DUV)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Лампа для висушування резисту глибокого УФ світла (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лінії літографії можна швидко навчитися: навіть незначне відхилення профілю температури під час висушування фотополімеру може призвести до значних проблем. Навіть напівградусне відхилення може змусити критичні розміри чипа відхилитися від необхідних значень, а наявність частинок може перетворити хороший чип на несправний ще до того, як ви це помітите. Лампа для висушування фотополімера допомагає уникнути таких проблем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у процесі висушування&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мова йде про термічну однорідність на рівні всього поверхні чипа – приблизно ±0,1°C. Це дозволяє фотополімеру висихати однаково на кожній партії продукції. Коротковхвильове випромінювання та оптимізована конструкція кварцового елемента забезпечують швидке та контрольоване нагрівання без утворення „гарячих точок“. Крім того, система працює без жодних викидів частинок, тож не потрібно постійно стежити за рівнем частинок у чистій кімнаті класу 1–100.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Нагрівач для ламінування фільму захисника</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/dry-film-resist-laminating-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/uk/posts/dry-film-resist-laminating-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Нагрівач для ламінування фільму захисника&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні для літографії нагрівач для ламінування не просто надає тепло – він також визначає температурний режим для всієї стрuktури фоторезисту. Якщо температура змінюється на 0,5°C під час процесу нагрівання, це впливає на в’язкість матеріалу, форму країв та контроль критичних розмірів. Коли вимога полягає у стабільній температурі до ±0,1°C по всій поверхні підкладки, то нагрівач є ключовим елементом усього процесу.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ми створили систему, яка базується на використанні інфрачервоного нагрівача короткої довжини хвилі, який підходить для роботи в чистих приміщеннях. Цей нагрівач забезпечує швидку реакцію на зміни температури без утворення частинок. Контролер температури забезпечує стабільність температури на рівні ±0,1°C по всій активній області. Поверхні камери, виготовлені з нержавіючої сталі, та система відведення повітря з фільтрами HEPA допомагають контролювати кількість частинок у середовищі класу 1–100. Повторюваність результатів забезпечується завдяки фіксованому температурному профілю, який можна зберігати та використовувати для кожної партії продукції.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
