Đèn sấy chất kháng tia UV mạnh (DUV)

Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp litography, người ta có thể học nhanh chóng những điều cần biết: việc thay đổi mức độ nung chảy của vật liệu phản ứng dù chỉ một chút cũng có thể gây ra những ảnh hưởng tiêu cực không lường trước được. Chỉ cần sự sai lệch 0,5 độ thôi cũng có thể khiến kích thước các chi tiết trên wafer bị lệch khỏi mục tiêu; còn sự xuất hiện của các hạt bụi cũng có thể biến một tấm wafer tốt thành rác thải trong chốc lát. Đèn nung chảy dùng cho công nghệ DUV giúp loại bỏ yếu tố may rủi trong quá trình nung chảy này.

Máy gia nhiệt dùng để phủ lớp chống dính lên bề mặt phim khô

Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800

Trong quy trình lắp đặt lớp màng cách điện bằng phương pháp in ấn, thiết bị làm nóng không chỉ có chức năng tạo nhiệt mà còn giúp kiểm soát nhiệt độ trong toàn bộ khu vực được xử lý. Nếu có sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C trong quá trình gia nhiệt, điều đó sẽ ảnh hưởng đến độ nhớt của lớp màng cách điện, cũng như khả năng kiểm soát kích thước các chi tiết được in ra. Khi yêu cầu độ đồng đều nhiệt độ phải đạt mức ≤±0,1°C trên toàn bộ bề mặt substrat, thì thiết bị làm nóng này không còn là một thiết bị phụ trợ nữa – mà chính là yếu tố then chốt trong quy trình sản xuất.

Chống Lại; Kháng Cự on Focused IR Heating Beams

Đèn sấy chất kháng tia UV mạnh (DUV)

Máy gia nhiệt dùng để phủ lớp chống dính lên bề mặt phim khô