Drayer Là Một L on Focused IR Heating Beams

Bộ điều khiển máy sấy bằng tia hồng ngoại kỹ thuật số

Mon, 20 Jul 2026 11:41:13 +0800

Ngăn chặn sự vỡ nứt của các bộ phận trong đèn: Giữ cho các tấm wafer sạch sẽ và các thiết bị sấy khô an toàn

Nếu bạn từng gặp tình trạng đèn hồng ngoại bị nổ ngay giữa quá trình sản xuất, bạn sẽ hiểu rằng đó là một thảm họa. Chỉ trong một giây, mọi thứ vẫn ổn, nhưng ngay sau đó, các mảnh thủy tinh và sợi kim loại lại rơi xuống các tấm wafer.

Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Trên dây chuyền sản xuất 300mm, việc sấy khô lớp phim quang học không đơn thuần chỉ là một bước xử lý nhiệt thông thường. Đó là yếu tố quyết định chất lượng sản phẩm. Nếu độ chính xác của nhiệt độ trong quá trình sấy bị lệch ngay cả 0,1°C, thì khả năng kiểm soát kích thước các chi tiết quan trọng sẽ bị ảnh hưởng nghiêm trọng. Các lò sấy thông thường gặp khó khăn trong việc duy trì độ ổn định nhiệt độ ở các vùng khác nhau của wafer; đồng thời, lò sấy dạng đối lưu lại gây ra tình trạng nhiễm bẩn do các hạt bụi trong không khí. Trong môi trường phòng sạch loại 1–100, sự xuất hiện của các hạt bụi và thời gian ngừng hoạt động không mong muốn không chỉ gây tổn thất về mặt thời gian, mà còn dẫn đến việc mất đi toàn bộ lô sản phẩm.

Đèn sấy wafer DNS (màn hình)

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Trên sàn lithography, sự trôi lệch 1°C trong quá trình nướng mềm hoặc nướng cứng không phải là một “lỗi nhỏ.” Đó là một tác động đến năng suất, đơn giản là như vậy. Bạn theo dõi các wafer rời khỏi đường đi với các bờ viền, độ rộng đường vẽ không đồng nhất, hoặc dung môi chưa bao giờ được loại bỏ hoàn toàn—cặn bã sẽ xuất hiện sau này như một khiếm khuyết. Điều bạn cần là một nguồn nhiệt xử lý toàn bộ wafer như một thể thống nhất nhiệt, không phải là một mảnh ghép của các điểm nóng và lạnh.