Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Trên dây chuyền sản xuất 300mm, việc sấy khô lớp phim quang học không đơn thuần chỉ là một bước xử lý nhiệt thông thường. Đó là yếu tố quyết định chất lượng sản phẩm. Nếu độ chính xác của nhiệt độ trong quá trình sấy bị lệch ngay cả 0,1°C, thì khả năng kiểm soát kích thước các chi tiết quan trọng sẽ bị ảnh hưởng nghiêm trọng. Các lò sấy thông thường gặp khó khăn trong việc duy trì độ ổn định nhiệt độ ở các vùng khác nhau của wafer; đồng thời, lò sấy dạng đối lưu lại gây ra tình trạng nhiễm bẩn do các hạt bụi trong không khí. Trong môi trường phòng sạch loại 1–100, sự xuất hiện của các hạt bụi và thời gian ngừng hoạt động không mong muốn không chỉ gây tổn thất về mặt thời gian, mà còn dẫn đến việc mất đi toàn bộ lô sản phẩm.

(NIR) on Focused IR Heating Beams

Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)