<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Sâu on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/vi/tags/s%C3%A2u/</link>
		<description>Recent content in Sâu on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/vi/tags/s%C3%A2u/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Đèn sấy chất kháng tia UV mạnh (DUV)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/vi/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/vi/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Đèn sấy chất kháng tia UV mạnh (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình in ấn bằng phương pháp &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;litography&lt;/a&gt;, người ta có thể học nhanh chóng những điều cần biết: việc thay đổi mức độ nung chảy của vật liệu phản ứng dù chỉ một chút cũng có thể gây ra những ảnh hưởng tiêu cực không lường trước được. Chỉ cần sự sai lệch 0,5 độ thôi cũng có thể khiến kích thước các chi tiết trên &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; bị lệch khỏi mục tiêu; còn sự xuất hiện của các hạt bụi cũng có thể biến một tấm wafer tốt thành rác thải trong chốc lát. Đèn nung chảy dùng cho công nghệ DUV giúp loại bỏ yếu tố may rủi trong quá trình nung chảy này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
