Wafer on Focused IR Heating Beams

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Sat, 25 Jul 2026 05:00:03 +0800

Bảo vệ an toàn khi sử dụng đèn hồng ngoại gần các chất hóa học dễ cháy nổ

Hãy thừa nhận rằng việc đặt đèn hồng ngoại ngay bên cạnh các chất lỏng dễ cháy và khí dễ nổ là một điều rất nguy hiểm. Nếu bạn sử dụng loại đèn thông thường trong quy trình làm sạch hóa chất, thì bạn đang tự mình tạo ra nguy cơ xảy ra thảm họa.

Chúng tôi giải quyết vấn đề này bằng cách sử dụng loại đèn được bọc trong vật liệu thủy tinh chất lượng cao. Điều này không chỉ giúp duy trì môi trường sạch sẽ mà còn tạo thành một “bức tường” bảo vệ các bộ phận điện tử khỏi tác động của không khí xung quanh.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Tue, 21 Jul 2026 03:50:50 +0800

Đừng để một chiếc đèn hỏng phá hủy toàn bộ sản phẩm của bạn: Cách giữ cho các tấm wafer MEMS luôn sạch sẽ
Trong các nhà máy sản xuất MEMS với khối lượng lớn, chỉ cần một chiếc đèn hỏng thôi cũng có thể phá hủy mọi thứ. Điều này xảy ra rất nhanh: ống hồng ngoại bị vỡ, và ngay lập tức, các tấm wafer không chỉ bị ướt mà còn bị phủ đầy mảnh thủy tinh và bụi kim loại. Đó là tình huống kinh hoàng, khiến toàn bộ sản phẩm bị hủy hoại chỉ trong vài giây.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Tue, 14 Jul 2026 10:48:44 +0800

Hãy ngừng lãng phí năng lượng vào các bức tường của thiết bị đi!

Việc làm nóng tấm silic đòi hỏi rất nhiều năng lượng. Vấn đề là: hầu hết các thiết bị sử dụng công nghệ hồng ngoại thông thường đều phát ra nhiệt lượng một cách tự do, khiến một lượng lớn năng lượng bị lãng phí vào các bức tường bên trong thiết bị, thay vì được dùng để làm nóng tấm silic.

Bộ phản quang dùng cho đèn khử ẩm wafer

Sat, 11 Jul 2026 09:03:12 +0800

Hãy ngăn chặn việc các bóng đèn bị hỏng làm hủy hoại các tấm wafer của bạn.
Khi bạn vận hành quy trình xử lý wafer ở mức công suất cao, việc bóng đèn bị hỏng không chỉ gây ra những phiền toái nhỏ mà còn dẫn đến thiệt hại nghiêm trọng. Nếu ống thủy tinh bị vỡ, những mảnh thủy tinh và chất halogen sẽ rơi trực tiếp lên bề mặt silicon của wafer. Kết quả là toàn bộ lô sản phẩm sẽ bị hỏng. Đó là một thảm họa nghiêm trọng.

Cảm biến nhiệt độ dùng cho thiết bị xử lý wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:51:09 +0800

Vấn đề: Làm thế nào để kiểm soát nhiệt độ trong các thiết bị xử lý wafer?
Hãy cùng tìm hiểu về các thiết bị dùng để xử lý wafer. Chắc chắn rằng chúng cần có nhiệt lượng, nhưng đó phải là nguồn nhiệt được kiểm soát một cách chính xác.

Các phương pháp truyền thống thì tồi tệ. Chúng tạo ra nhiệt lượng ở khắp mọi nơi, gây lãng phí năng lượng và khiến các bức tường của buồng xử lý trở thành nguồn nguy hiểm do nhiệt độ quá cao.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Sat, 20 Jun 2026 06:00:49 +0800

Trong khu vực xử lý bằng phương pháp in ấn quang học, khoảng cách an toàn xung quanh wafer khi được làm nóng không phải là một “vùng an toàn” để hoạt động. Đó thực chất là giới hạn cần tuân thủ trong quy trình sản xuất. Nếu tiếp cận quá gần, sẽ xảy ra hiện tượng nhiễu nhiệt, biến dạng cấu trúc của lớp phim bảo vệ wafer, và sự di chuyển của các hạt trong wafer. Ngược lại, nếu duy trì khoảng cách quá xa, quá trình làm nóng sẽ không hiệu quả; độ đồng đều của kích thước wafer sẽ bị sai lệch so với tiêu chuẩn. Chúng tôi thiết kế nền tảng làm nóng sao cho có thể duy trì đúng khoảng cách này, nhằm đảm bảo rằng nhiệt độ trong quá trình xử lý nằm trong phạm vi cho phép.

Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Trên dây chuyền sản xuất 300mm, việc sấy khô lớp phim quang học không đơn thuần chỉ là một bước xử lý nhiệt thông thường. Đó là yếu tố quyết định chất lượng sản phẩm. Nếu độ chính xác của nhiệt độ trong quá trình sấy bị lệch ngay cả 0,1°C, thì khả năng kiểm soát kích thước các chi tiết quan trọng sẽ bị ảnh hưởng nghiêm trọng. Các lò sấy thông thường gặp khó khăn trong việc duy trì độ ổn định nhiệt độ ở các vùng khác nhau của wafer; đồng thời, lò sấy dạng đối lưu lại gây ra tình trạng nhiễm bẩn do các hạt bụi trong không khí. Trong môi trường phòng sạch loại 1–100, sự xuất hiện của các hạt bụi và thời gian ngừng hoạt động không mong muốn không chỉ gây tổn thất về mặt thời gian, mà còn dẫn đến việc mất đi toàn bộ lô sản phẩm.

Đèn sấy wafer DNS (màn hình)

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Trên sàn lithography, sự trôi lệch 1°C trong quá trình nướng mềm hoặc nướng cứng không phải là một “lỗi nhỏ.” Đó là một tác động đến năng suất, đơn giản là như vậy. Bạn theo dõi các wafer rời khỏi đường đi với các bờ viền, độ rộng đường vẽ không đồng nhất, hoặc dung môi chưa bao giờ được loại bỏ hoàn toàn—cặn bã sẽ xuất hiện sau này như một khiếm khuyết. Điều bạn cần là một nguồn nhiệt xử lý toàn bộ wafer như một thể thống nhất nhiệt, không phải là một mảnh ghép của các điểm nóng và lạnh.