In der 300-mm-Linie ist das Trocknen des Fotolacks keine gewöhnliche thermische Behandlung – es handelt sich dabei um einen entscheidenden Faktor für die Genauigkeit der Prozesse. Selbst kleine Abweichungen von ±0,1 °C können dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen unmöglich wird. Herkömmliche Heizplatten führen zu Unregelmäßigkeiten an den Rändern der Wafer, während konventionelle Öfen zur Verunreinigung der Wafer durch Luftpartikel führen. In einer Reinraumklasse 1–100 kosten Partikelbildung sowie unplanmäßige Stillstände nicht nur Minuten – sie kosten ganze Produktchargen.
Was wirklich wichtig ist
Wir haben den NIR-Waftertrockner so konzipiert, dass er nahe-infrarotes Licht verwendet – dadurch erfolgt eine direkte, volumetrische Erwärmung ohne Luftströmung. Das Ergebnis ist eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Waferoberfläche innerhalb eines Zeitraums von ±0,1 °C. Zudem wird die Temperatur des Fotolacks in Sekundenschnelle auf den gewünschten Wert gebracht. Da es keine bewegte Luft gibt, entstehen auch keine Partikel. Die Kammer ist vollständig abgeschlossen, sodass nur die Wafer selbst mit der Umgebung in Kontakt kommt.
Das System ist für einen 24/7-Betrieb ausgelegt – alle Komponenten sind für eine kontinuierliche Nutzung geeignet, und die thermische Architektur sorgt für eine hohe Wiederholgenauigkeit bei tausenden von Zyklen. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist bereits in der Konstruktion berücksichtigt worden. Der Trockner ist mechanisch dicht verschlossen, chemisch kompatibel und wurde so entwickelt, dass die Partikelzahl auf ein Minimum gesenkt wird.
Warum das in der Lithografie wichtig ist
In der Lithografie ist die Gleichmäßigkeit der Erwärmung ausschlaggebend für die Stabilität der Produktqualität sowie die Effizienz des Prozesses. Der NIR-Trockner verkürzt die Zeit für die Erwärmung, reduziert die Energieverbrauch und beseitigt die Unregelmäßigkeiten, die durch Unterschiede in der Heizleistung entstehen. Dadurch werden die Ergebnisse beim Weich- und Harttrocknen präziser, es kommen weniger Nacharbeiten vor, und die Leistung des Prozesses ist deutlich vorhersehbarer.
Der Energieverbrauch sinkt, da die Energie direkt in die Wafer fließt – anstatt in die Erwärmung der Luft oder der Geräte. Zudem werden die Wartungsintervalle verlängert, da es weniger bewegliche Teile gibt. Und die Prozessparameter werden stabiler, da die Temperaturgenauigkeit nicht mehr zum Engpass wird.
Was Sie planen müssen
Der NIR-Trockner benötigt eine direkte Sichtlinie auf die Waferoberfläche. Daher muss die Anordnung der Geräte so sein, dass dieser optische Weg in der Kammer frei bleibt. Bei der Integration in bestehende Anlagen sollten Sie bereits frühzeitig auf die mechanischen Anforderungen sowie die Kommunikationsprotokolle achten. Wir liefern die notwendigen Spezifikationen frühzeitig, damit es während der Integration keine Probleme gibt.
Bei der Erstkalibrierung sollte man mit einer kurzen Erwärmungslaufzeit rechnen, um die Parameter für den Fotolack einzustellen. Sobald diese eingestellt sind, funktioniert der Prozess zuverlässig, leise und konstant – Tag für Tag, Charge für Charge.