Sicherheit bei der Erwärmung von Wafern in der Nähe flüchtiger Chemikalien Seien wir ehrlich: Infrarotlampen direkt neben brennbaren Lösungsmitteln...

Lassen Sie nicht zu, dass eine kaputte Lampe Ihre gesamte Charge zerstört – halten Sie die MEMS-Wafer sauber! In einer Anlage mit hoher...

Hören Sie auf, Energie an die Wände der Geräte zu verschwenden Das Erhitzen eines Siliziumwafers erfordert eine Menge Energie. Das Problem: Die...

Hören Sie auf, zuzulassen, dass defekte Lampen Ihre Wafer zerstören! Wenn Sie Wafer bei hoher Belastung trocknen lassen, ist ein defekter Lampen...

Das Problem: Die Kontrolle der Hitze in den Wafer-Verarbeitungswerkzeugen Lassen Sie uns über die Werkzeuge zur Verarbeitung von Wafern sprechen. Sie...

Auf der Lithografie-Bodenfläche stellt die Sicherheitsentfernung um das Wafer herum keine „Komfortzone“ dar – es handelt sich dabei vielmehr um eine...

In der 300-mm-Linie ist das Trocknen des Fotolacks keine gewöhnliche thermische Behandlung – es handelt sich dabei um einen entscheidenden Faktor für...

Zurück in der Linie verlässt ein nasses MEMS-Wafer die Reinigung und steht wartend bereit. Die nächste Station – Fotoresist-Beschichtung, Softbake...

Auf der Lithografiebühne ist eine Drift von 1 °C beim Softbake oder Hardbake kein „kleiner Fehler“. Es ist ein Ertragseinbruch, ganz einfach. Sie...