Di lantai proses litografi, perubahan suhu selama proses pemanasan sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk mengubah dimensi kritis benda kerja hingga beberapa nanometer. Ini bukan sekadar masalah panas saja; ini merupakan masalah kontrol yang harus dikendalikan dengan baik.
Lampu standar dapat menghasilkan ozon, dan sisa ozon tersebut akan mempengaruhi daya rekat bahan fotoresistan, sekaligus meningkatkan jumlah partikel di area tersebut. Kami menggunakan lampu inframerah yang bebas ozon, sehingga suhu tetap stabil sesuai pengaturan yang telah ditentukan, tanpa adanya kejutan.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami menggunakan emiter inframerah berfrekuensi rendah yang memiliki respons cepat, sehingga menghasilkan output yang stabil dalam hitungan detik. Di area pemanasan, keseragaman suhu pada wafer tetap terjaga pada kisaran ±0,1°C, dan kualitas hasil pemrosesan tetap konsisten dari satu kali proses ke lainnya.
Kemasan kuarsa serta bahan-bahan yang digunakan cocok digunakan di lingkungan kelas 1–100. Tidak ada emisi gas atau partikel saat lampu menyala. Kepadatan energi disesuaikan dengan karakteristik bahan fotoresistan, sehingga kurangnya efek termal dan efek-efek negatif lainnya dapat diminimalkan.
Mengapa hal ini penting dalam proses fotoresistan? Proses pemanasan lembut bertujuan untuk menghilangkan pelarut dan menstabilkan tekanan pada lapisan fotoresistan. Proses pemanasan keras digunakan untuk menstabilkan gambar sebelum proses etching. Dengan penggunaan lampu inframerah yang bebas ozon, kita dapat mengontrol lebar garis dengan lebih baik, mengurangi cacat pada permukaan benda kerja, dan mengurangi kebutuhan akan proses perbaikan.
Sistem ini dapat beroperasi 24/7 dengan output yang stabil. Penggunaan energinya juga lebih sedikit dibandingkan metode konveksi, karena panas langsung masuk ke lapisan fotoresistan, bukan ke seluruh ruangan. Kapasitas produksi meningkat tanpa mengorbankan kualitas produk. Umur lampu pun panjang, sehingga memungkinkan proses produksi yang berkelanjutan dengan jadwal perawatan yang dapat diprediksi.
Aspek praktisnya: Output lampu bersifat linier, jadi geometri integrasi harus dipastikan agar sinar lampu tetap sejajar dengan jalur wafer. Gunakan alat reflektif untuk mencegah panas yang tidak diinginkan merusak komponen optik di sekitarnya.
Setelah alat tidak digunakan, diperlukan waktu singkat untuk mencapai keseimbangan termal. Planlah profil pemanasan sesuai dengan waktu penyesuaian tersebut. Kompatibilitas dengan peralatan yang sudah ada cukup mudah, tetapi pastikan jarak mekanis dan koneksi listriknya sesuai dengan petunjuk dari tim teknis Anda.