Prevenire la contaminazione dei wafer grazie a una progettazione sicura delle lampade a infrarossi ad alta potenza
Come evitare i problemi legati alla contaminazione da particelle nelle lampade UHP In un ambiente di semiconduttori ad alta intensità di carico, la...
Prevenire la contaminazione delle wafer grazie alla progettazione del rivestimento del riscaldatore a infrarossi in acciaio inossidabile
Fermare l’incubo causato dalle lampade a infrarossi difettose In una fabbrica di semiconduttori, il malfunzionamento di una lampada a infrarossi non...
Distanza di sicurezza per il riscaldamento della wafer
Nella sala di litografia, quella distanza di sicurezza attorno al wafer in fase di riscaldamento non rappresenta certo una “zona di comfort”. Si...
Asciugatore di wafer a infrarossi vicini (NIR)
Nella linea di produzione da 300 mm, la fase di essiccazione del fotorest non è semplicemente un altro passaggio termico: rappresenta invece una...
Riscaldatore per asciugatura wafer MEMS
Back on the line, un wafer MEMS bagnato esce dalla fase di pulizia e resta in attesa. La tappa successiva—rivestimento con fotoresist, soft bake e...