Warum warten? IR-Heizung im Halbfertigungsprozess Wenn Sie bereits Erfahrung mit der tiefgreifenden Verarbeitung von Halbleitern haben, kennen Sie...

Lassen Sie uns über die Elektrosicherheit bei Vakuum-IR-Heizern sprechen. Im Vakuumumfeld gibt es keine Nachsicht – es ist ein Umfeld, das keine...

Hören Sie auf, zuzulassen, dass Staub Ihre Carbon-Nanoröhren zerstört! Wenn Sie schon einmal Stunden damit verbracht haben, Carbon-Nanoröhren...

Lassen Sie nicht zu, dass eine kaputte Lampe Ihre gesamte Charge zerstört – halten Sie die MEMS-Wafer sauber! In einer Anlage mit hoher...

Hören Sie auf, sich Sorgen um Ihre Infrarotheizer in chemischen Bereichen zu machen. Seien wir ehrlich: Die Verwendung von Infrarotlampen in der Nähe...

Korrekte Wärmezufuhr in Vakuum-IR-Systemen Beim Herstellen von Halbleitern ist eine enorme Menge an Wärme erforderlich – doch man darf auf keinen...

Bei der Trocknung des Fotolacks reicht bereits eine Abweichung von einem halben Grad aus, damit die kritischen Abmessungen nicht mehr den...

Im Bereich der Lithografie fungiert die Heizung zum Laminieren nicht nur dazu, Wärme zuzuführen. Sie bestimmt vielmehr den thermischen Zustand des...

Auf der Lithografie-Bodenfläche stellt die Sicherheitsentfernung um das Wafer herum keine „Komfortzone“ dar – es handelt sich dabei vielmehr um eine...

Auf der 300mm-Linie führt ein 15-sekündiges Softbake mit einer Abweichung von 2°C zu einer Linienbreitenabweichung im Resist. Die Belichtung erfolgt...

Zurück in der Linie verlässt ein nasses MEMS-Wafer die Reinigung und steht wartend bereit. Die nächste Station – Fotoresist-Beschichtung, Softbake...