Verhinderung der Kontamination von Wafern durch ein sicheres Design von UHP Infrarotlampen
Die Kontrolle der Verunreinigungen: Umgang mit Partikelverschmutzungen bei UHP-Heizungen In einer hochbelasteten Halbleiteranlage ist das Platzen...
Erreichen einer vollständigen Kontaminationsfreiheit bei der Trocknung von MEMS Wafern mithilfe von IR Lampen aus hochreinem Quarz
Wie man einen Saal der Klasse 100 tatsächlich sauber hält Wenn man MEMS-Sensorwafern trocknet, kennt man das Problem: Ein einziger Staubkorn auf der...