लिथोग्राफी प्रक्रिया में, लैमिनेटिंग हीटर का काम सिर्फ ऊष्मा प्रदान करना ही नहीं है; बल्कि यह पूरे फोटोरेजिस्ट सिस्टम के लिए आवश्यक तापमान स्तर भी...

लिथोग्राफी प्रक्रिया में, वेफर को गर्म करने के दौरान उसके चारों ओर बने सुरक्षा-दूरी क्षेत्र को “आरामदायक क्षेत्र” नहीं माना जा सकता। यह तो एक कठिन...

300 मिमी लाइन पर, फोटोरेजिस्ट को सुखाने की प्रक्रिया केवल एक सामान्य तापीय प्रक्रिया ही नहीं है; बल्कि यह तो आकार-संबंधी नियंत्रण हेतु आवश्यक है। यदि...

फैब फ्लोर पर, रैपिड थर्मल प्रोसेसिंग में थर्मल ड्रिफ्ट थर्मल बजट को कम करता है, और फोटोरेसिस्ट प्रोफाइल गिरने लगते हैं। वेफर-लेवल समानता कोई शैक्षणिक...

300mm लाइन पर, 15-सेकंड का सॉफ्ट बेक जिसमें 2°C का ड्रिफ्ट होगा, रेसिस्ट में लाइनविड्थ एक्सकर्सन के रूप में दिखाई देगा। एक्सपोजर के लिए केवल एक ही...

Back on the line, एक गीला MEMS वेफर सफाई से बाहर आता है और इंतजार करता है। अगला चरण—फोटोरहद परत, सॉफ्ट बेक, और एक साफ़ सूखा—थर्मल ड्रिफ्ट के लिए कोई...

लिथोग्राफी फ्लोर पर, सॉफ्ट बेक या हार्ड बेक में 1°C का परिवर्तन “छोटी गलती” नहीं है। यह एक उपज हिट है, साफ और सीधा। आप देख सकते हैं कि...