Di bilik litografi tersebut, jarak keselamatan yang diperlukan di sekitar wafer semasa proses pemanasan bukanlah kawasan yang selesa untuk beroperasi. Ia merupakan batasan yang perlu dipatuhi.
Jika kita terlalu dekat dengan wafer, ia akan menyebabkan masalah seperti gangguan termal, gangguan pada struktur permukaan wafer, serta pergerakan zarah-zarah di dalamnya. Sebaliknya, jika kita terlalu jauh, proses pemanasan tidak akan berkesan sepenuhnya, dan keseragaman ketebalan lapisan fotoresist akan terjejas. Kami telah merancang platform pemanasan ini agar jarak tersebut dapat dikekalkan dengan tepat, supaya suhu yang digunakan tetap berada dalam julat yang ditetapkan.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer berada dalam lingkungan ±0.1°C sepanjang proses pemanasan. Suhu pemanasan yang tepat mempengaruhi ketebalan garis dan sudut sisi wafer, jadi toleransi ini bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan.
Sistem ini sesuai digunakan dalam ruang bersih kelas 1–100, menggunakan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta sistem pengaliran haba yang tertutup. Dalam keadaan stabil, tiada penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan.
Sistem ini beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan yang tidak dijangka. Setiap proses pemanasan dilakukan dengan ketepatan yang tinggi, dan keseragaman ini memastikan kualiti produk yang konsisten.
Mengapa ini penting dalam proses pengeluaran:
Dalam kilang pengeluaran, faktor yang paling penting ialah masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran dan jumlah bahan buangan yang dihasilkan. Kawalan suhu yang tepat dapat memendekkan masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran dan mengurangkan keperluan untuk membaiki produk yang rosak.
Keseragaman yang lebih baik bermakna kurangnya masalah pada bahagian tepi wafer. Profil suhu yang konsisten membantu menjaga keseragaman ketebalan lapisan fotoresist dan mengurangkan kecacatan pada produk. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana sistem dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mengekalkannya tanpa melebihi had yang ditetapkan.
Apa yang perlu diketahui terlebih dahulu:
Pemasangan platform ini perlu dilakukan dengan tepat, agar jarak keselamatan tetap terjaga walaupun sistem beroperasi secara automatik. Platform ini boleh digunakan dengan antaramuka standard, namun integrasinya perlu mempertimbangkan aliran gas dan beban haba yang dialami oleh komponen-komponen di sekelilingnya. Proses penyesuaian hanya memerlukan waktu yang singkat, iaitu cukup untuk menyesuaikan kadar pemanasan agar sesuai dengan lapisan fotoresist yang digunakan. Setelah itu, proses pengeluaran dapat berjalan dengan lancar.