Droger voor wafer in het nabije infrarode gebied (NIR)
Op de 300mm-lijn is het drogen van de fotoresist geen gewone thermische stap. Het gaat om een cruciale factor voor de nauwkeurigheid van de...
DNS (Scherm) wafer droger lamp
Op de lithografievloer is een afwijking van 1°C in de soft bake of hard bake geen “kleine fout.” Het is een impact op de opbrengst,...