Op de 300mm-lijn zal een 15-seconden soft bake die met 2°C afwijkt, zich uiten als een lijnbreedte-excursie in de resist. Je hebt maar één kans bij...

Terug in de lijn komt een nat MEMS-wafer uit de reiniging en wacht. De volgende stap—photoresist coating, soft bake en een schone droogfase—vereist...