Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, chỉ cần nhiệt độ sấy thay đổi khoảng nửa độ, thì kích thước các chi tiết được in ra cũng sẽ thay đổi vài nanomet. Đây không chỉ là vấn đề liên quan đến nhiệt độ, mà còn là vấn đề liên quan đến khả năng kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác.
Các loại đèn thông thường có thể tạo ra ozone; chất này sẽ làm thay đổi độ bám của lớp hóa chất dùng để in, đồng thời gây ra những sai lệch trong số lượng hạt vi mô. Chúng tôi sử dụng đèn hồng ngoại không chứa ozone, nhờ đó nhiệt độ được duy trì ở mức mong muốn, không có bất kỳ sự thay đổi nào.
Những yếu tố quan trọng trong quy trình xử lý Chúng tôi sử dụng các bộ phát hồng ngoại sóng ngắn với khả năng phản ứng nhanh, giúp duy trì nhiệt độ ổn định trong vài giây. Trong khu vực sấy, độ đồng đều của nhiệt độ trên từng wafer được duy trì ở mức ±0.1°C, và độ lặp lại của quy trình cũng rất ổn định.
Vỏ bọc bằng thạch anh và các vật liệu phù hợp với môi trường phòng sạch được sử dụng để đảm bảo rằng không có khí độc được giải phóng ra, và không có hạt vi mô nào xuất hiện trong quá trình sử dụng đèn. Mật độ năng lượng được điều chỉnh sao cho phù hợp với đặc tính của lớp hóa chất dùng để in, đồng thời bước sóng phát ra cũng được điều chỉnh sao cho phù hợp với đường cong hấp thụ của lớp hóa chất đó – nhờ đó giảm thiểu hiện tượng trễ nhiệt độ và các hiệu ứng bất lợi ở các mép của lớp hóa chất.
Tại sao điều này lại quan trọng trong quy trình xử lý lớp hóa chất Quy trình sấy mềm nhằm loại bỏ dung môi và điều chỉnh áp lực trên lớp hóa chất. Quy trình sấy cứng nhằm ổn định hình ảnh trước khi tiến hành quy trình khắc. Với việc sử dụng đèn hồng ngoại không chứa ozone, chúng ta có thể kiểm soát kích thước các đường nét một cách chính xác, giảm thiểu các khuyết tật trên lớp hóa chất, và giảm thiểu việc phải sửa chữa lại.
Hệ thống hoạt động 24/7 với nhiệt độ ổn định. Việc sử dụng hệ thống này giúp tiết kiệm năng lượng hơn so với phương pháp sấy thông thường, vì nhiệt độ được truyền trực tiếp vào lớp hóa chất, chứ không phải vào toàn bộ buồng sấy. Nhờ đó, tốc độ sản xuất được nâng cao mà vẫn giữ được tỷ lệ thành công cao. Thời gian sử dụng của đèn cũng khá dài, và việc bảo trì cũng dễ dàng hơn.
Những điều cần lưu ý trong quá trình sử dụng Ánh sáng từ đèn phải được truyền theo đúng hướng, vì vậy kích thước của hệ thống phải được thiết kế sao cho chùm sáng luôn hướng về phía wafer. Nên sử dụng các thiết bị phản chiếu ánh sáng để tránh ánh sáng lẫn vào các bộ phận quang học khác.
Sau khi máy ngừng hoạt động, cần có một khoảng thời gian ngắn để máy đạt trạng thái cân bằng nhiệt độ. Hãy lên kế hoạch cho quy trình sấy dựa trên khoảng thời gian này. Việc tích hợp hệ thống này với các thiết bị hiện có cũng khá dễ dàng, nhưng cần kiểm tra kỹ các yếu tố về kích thước và kết nối điện với đội ngũ kỹ thuật viên của bạn.