Prevence kontaminace waferů díky bezpečnostní konstrukci UHP infračervené lampy
Zastavení problémů: Jak se vypořádat s kontaminací částicemi při použití lamp UHP V zařízeních s vysokým výkonem je selhání lampy opravdu katastrofou...
Prevence kontaminace waferů díky návrhu pouzdra IR topného elementu z nerezové oceli
Zastavení noční můry spojené s selháním infračervené lampy V továrnách na výrobu polovodičů není selhání infračervené lampy jen technickou chybou –...
Dosažení nulové kontaminace při sušení políček MEMS pomocí IR lamp z vysokochuťového křemíku
Udržení vaší čisté místnosti třídy 100 opravdu čistou Pokud sušíte destičky senzorů typu MEMS, určitě znáte ten noční můru: jediný drobný prachový...
Bezpečná vzdálenost pro zahřívání destičky
V prostoru určeném k litografii není ta bezpečná vzdálenost kolem ohřívacích zařízení nějakou „komfortní zónou“ – jedná se o hranici procesu. Pokud...
Sušička čipů v blízkém infračerveném spektru (NIR)
V řadě 300 mm není sušení fotorezistu jen dalším tepelným krokem. Jde o záruku přesnosti rozměrů. I nepatrné odchylky o několik desetin stupně Celsia...