Pemanas untuk proses pelapisan lapisan penahan kering
Di lantai proses litografi, pemanas yang digunakan untuk proses pelapisan bukan sekadar memberikan haba semata-mata. Ia juga berfungsi untuk...
Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer
Di bilik litografi tersebut, jarak keselamatan yang diperlukan di sekitar wafer semasa proses pemanasan bukanlah kawasan yang selesa untuk...
Pengering wafer inframerah dekat (NIR)
Pada garis pengeluaran 300mm, proses pemanggangan bahan fotorezist bukan sekadar langkah pemanasan biasa. Ia merupakan faktor penting yang menentukan...
Lampu halogen untuk sistem RTP
Di lantai fab, drift terma dalam pemprosesan terma pantas mengurangkan bajet terma, dan profil fotoresis mula runtuh. Keseragaman di peringkat wafer...
Mentol pemanas inframerah respons pantas
Pada lini 300mm, soft bake selama 15 saat yang tergelincir sebanyak 2°C akan muncul sebagai penyimpangan lebar garisan pada resist. Anda hanya...
Pemanas pengeringan wafer MEMS
Back on the line, wafer MEMS basah keluar dari proses pembersihan dan menunggu. Perhentian seterusnya—lapisan fotoresist, penaik lembut, dan...
Lampu pengering wafer DNS (Skrin)
Di lantai litografi, drift 1°C dalam soft bake atau hard bake bukanlah “kesilapan kecil.” Ia adalah kesan kepada hasil, jelas dan...