Предотвращение загрязнения ваферов благодаря безопасной конструкции инфракрасных ламп высокой мощности
Как предотвратить проблемы: борьба с загрязнением частицами при использовании ламп высокой мощности В устройствах для обработки полупроводников при...
Предотвращение загрязнения пластин за счет проектирования корпуса инфракрасного нагревателя из нержавеющей стали
Как предотвратить катастрофу, вызванную сбоями в работе инфракрасных ламп На производстве полупроводников сбой в работе инфракрасной лампы — это не...
Достижение степени нулевого загрязнения при сушке пластин MEMS с использованием инфракрасных ламп из высокочистого кварца
Как сохранить чистоту в помещении класса 100 Если вы сушите пластины с датчиками типа MEMS, то знаете, какова это проблема: один лишь крошечный...
Расстояние безопасности при нагревании пластины
На участке литографии безопасное расстояние вокруг поверхности пластины при нагревании не является зоной комфорта – это граница, которую необходимо...
Нагреватель для сушки пластин МЭМС
Вернувшись к линии Сырой MEMS-вафель выходит из процесса очистки и ожидает. Следующая остановка — нанесение фоточувствительного покрытия, мягкая...
Светильник для сушки ваферов DNS (экран)
На литографическом этаже отклонение температуры на 1°C во время мягкой или жесткой сушки не является «небольшой ошибкой». Это приводит к снижению...