真空チャンバーの壁を加熱するのはやめましょう。 真空状態でウェーハや基板を加熱しようとするとき、エネルギーは一箇所に集中してほしいものです。しかし問題は、ほとんどのシステムにおいて「熱の散逸」が起こってしまうことです。赤外線放射は目的の部分に当たる代わりに、チャンバーの壁に吸収されてしまいます。こ...

真空環境下での適切な加熱方法 半導体を製造する際には、莫大な量の熱が必要ですが、ウェーハが汚染されてしまっては困ります。通常の抵抗式ヒーターでは、このような状況には対応できません。 そのため、私たちは真空環境に適した赤外線ランプを利用します。このランプは、熱を伝える媒体を使わず、放射によって直接エ...