半導体洗浄工程における熱漏れの防止 半導体の洗浄工程に携わったことがある人なら、その苦労はよく分かるでしょう。ウエハを正確な温度に保とうとする一方で、装置内部はまるでオーブンのようになってしまいます。 一般的なIRランプは、どこにでも熱を放出するため、使い勝手が悪いです。結果として、大量のエネルギ...

半導体の洗浄工程における「ホットウォール」問題の解決策 半導体のウェットプロセスに携わったことがある人なら、その苦労はよく理解しているでしょう。洗浄処理中にウェーハを加熱する必要がありますが、装置の外殻がオーブンのようになってしまうのは避けたいものです。 従来の放射型ヒーターは、基本的に電球のよう...