반도체 세척 과정에서의 열 누출을 막는 방법 반도체 세척 공정을 경험해본 사람이라면 그 어려움을 잘 알 것입니다. 웨이퍼의 온도를 정확하게 유지하려고 하지만, 기계 내부는 마치 오븐처럼 뜨거워집니다. 일반적인 적외선 램프는 열을 사방으로 방출하기 때문에 문제가 됩니다...

반도체 세척 공정에서 발생하는 “hot wall” 문제를 해결하기 위해 만약 반도체 웨트 프로세싱 분야에서 일해본 경험이 있다면, 그 어려움을 잘 알고 있을 것입니다. 세척 과정에서 웨이퍼를 가열해야 하지만, 장비의 외부가 오븐처럼 뜨거워지는 것은 피해야 합니다. 전...