جلوگیری از مشکلات ناشی از آلودگی ذرات در سیستم‌های گرمایشی UHP در سیستم‌های نیمه‌هادی با بار بالا، خراب شدن لامپ‌ها فقط یک مشکل کوچک نیست؛ بلکه یک...

متوقف کردن فاجعه ناشی از خرابی لامپ‌های مادون قرمز در کارخانه‌های تولید نیمه‌هادی، خرابی لامپ‌های مادون قرمز صرفاً یک اختلال فنی نیست؛ بلکه یک فاجعه...

حفظ سالن تمیز شما در حالت کاملاً تمیز اگر در حال خشک کردن ویفرهای حسگر MEMS هستید، می‌دانید که چقدر این کار دشوار است: حتی یک ذره گرد و غبار روی...

حفظ ایمنی در هنگام گرم کردن ویفرها در نزدیکی مواد شیمیایی فرار باید صادقانه بگوییم: قرار دادن لامپ‌های مادون قرمز در کنار حلال‌های قابل اشتعال و...

نگذارید یک لامپ خراب، کل محصولات شما را نابود کند: نگهداری وافرهای MEMS در حالت تمیز در سیستم‌های MEMS با تولید حجم زیاد، یک خرابی کوچک می‌تواند همه...

دیگر انرژی خود را برای گرم کردن دیواره‌های دستگاه هدر ندهید! گرم کردن ویفرهای سیلیکونی نیاز به مقدار زیادی انرژی دارد. مشکل اینجاست که اکثر...

دیگر اجازه ندهید لامپ‌های خراب، وافرهای شما را نابود کنند! وقتی که در حال فرآیند خشک‌سازی وافرها با بار بالا هستید، خراب شدن لامپ صرفاً یک مشکل کوچک...

مشکل: کنترل گرما در ابزارهای فرآوری ویفرها بیایید درباره ابزارهای فرآوری ویفرها صحبت کنیم. البته، این ابزارها به گرما نیاز دارند؛ اما باید گرمایی...

در فضای لیتوگرافی، آن فاصله ایمنی در اطراف ویفر، منطقه‌ای برای استراحت نیست؛ بلکه مرزی حساس برای انجام فرآیندهاست. اگر خیلی نزدیک شوید، با مشکلاتی...

در خط تولید ۳۰۰ میلی‌متری، فرآیند گرم کردن فوتورزیست نه تنها یک مرحله حرارتی ساده است، بلکه تأثیر زیادی بر کنترل ابعاد محصول دارد. اگر دمای فوتورزیست...

در خط تولید یک ویفر MEMS مرطوب پس از تمیز کردن خارج شده و منتظر می‌ماند. ایستگاه بعدی—پوشش فتورزین، پخت نرم و خشک کردن تمیز—هیچ تحملی برای انحراف...

در طبقه لیتوگرافی، یک تغییر دما به اندازه ۱ درجه سانتی‌گراد در پخت نرم یا پخت سخت یک «اشتباه کوچک» نیست. این یک ضربه به بهره‌وری است، ساده و واضح....