リソグラフィーフロアでは、ソフトベイクの温度が半度変動するだけで、製品の寸法にナノメートル単位の誤差が生じます。これは単なる熱の影響ではなく、正確な制御が求められるのです。
一般的なランプはオゾンを発生させるため、その残留物がフォトレジストの密着性を悪化させ、粒子数も不正確になります。私たちはオゾンフリーの赤外線を使用しているため、熱収支が意図通りに保たれ、予期せぬ問題が起きません。
内部で重要なのは何か 私たちは反応速度が速い短波長赤外線エミッタを使用し、数秒以内に安定した出力を実現しています。ベイクゾーン全体でウェハーの均一性は±0.1℃以内に保たれ、繰り返し処理時の再現性も良好です。
石英製のケースやクリーンルーム対応の材料を使用しているため、クラス1～100の環境でも問題ありません。ランプが点灯している間はガス放出や粒子の発生はありません。電力密度はフォトレジストの特性に合わせて調整され、スペクトル出力も一般的なフォトレジストの吸収曲線に合わせているため、熱遅れや端の効果も少なくなります。
なぜこれがフォトレジスト処理に役立つのか ソフトベイクは溶剤を除去し、フィルムの歪みを調整するためのものです。ハードベイクはエッチング前に画像を安定させるためのものです。オゾンフリーの赤外線を使用することで、線幅の制御が可能となり、不具合が減少し、再作業も少なくなります。
このシステムは24時間365日安定して動作し、対流式よりも少ないエネルギーで済みます。なぜなら、熱が直接フィルムに伝わり、チャンバー内には届かないからです。生産量は向上し、ランプの寿命も長くなり、メンテナンスも容易になります。
実用上のポイント ランプの出力は直線的なため、統合構造はビームがウェハーの進行方向に沿うようにしなければなりません。余分な熱が周辺の光学部品に当たらないように、反射型の固定具を使用します。
装置が停止している間は、熱平衡に達するまで短時間のウォームアップが必要です。そのため、ベイクプロファイルをその時間に合わせて設定しましょう。既存の装置との互換性は問題ありませんが、機械的な隙間や電源接続については、装置の担当者と確認してください。